氮化鈦涂層物理氣相堆積法優(yōu)缺陷有哪些
氮化鈦涂層多弧堆積辦法的優(yōu)缺陷：
      氮化鈦涂層多弧堆積辦法( MAP)是一種使用廣泛的物理氣相堆積技能，具有高的離化率和堆積離子能量，有助于反響成膜、進步薄膜質(zhì)量及薄膜與基體的結(jié)合力。
缺陷：

     多弧技能堆積的涂層中殘留了由陰極材料射出的微觀顆粒（即所謂的“液滴”）。這些顆粒粒徑可達數(shù)十微米，導(dǎo)致涂層強度削弱、表面粗糙度添加、膜層均勻性降低一級缺陷，使其在較惡劣工作環(huán)境下的使用受到束縛。孔洞缺陷也是電弧離子鍍膜中普遍存在的一種缺陷，依據(jù)不同的鍍膜方式與工藝條件所制備的薄膜，其孔洞缺陷不同也很大。別的，疏松與縫隙也是電弧離子鍍氮化鈦涂層中呈現(xiàn)的缺陷。

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